陶瓷基板孔金属化
采用传统沉铜电镀的陶瓷基板孔金属化方案,容易出现孔内残液、附着力不佳、填铜不饱满等诸多工艺难点。采用铜浆塞孔的技术实现陶瓷基的孔金属化,工艺制程简单、填塞饱满、附着力好、成本极低。
本产品采用微纳米复合铜浆烧结而成,电阻率和可靠性俱佳。通过添加高温粘结剂和特种填料,可以进一步调整孔铜和界面的热膨胀系数,实现高可靠性的孔铜。
产品特点:
Ø 真空塞孔工艺效率高、质量好、成本低
Ø 电阻率接近纯铜实现大电流的有效导通
Ø 低热膨胀系数的孔铜和界面层实现高可靠性
技术参数:
基材 | 氧化铝 | 氮化铝 |
热膨胀系数 | 6.8 x10-6/K | 4.7 x10-6/K |
软化点 | 23 | 170 |
尺寸 | <182X182mm | <120X120mm |
厚度 | 0.25∽1mm | 0.15mm∽0.63mm |
孔径 | >60μm | >60μm |
深径比 | <10:1 | <10:1 |
孔边距 | >0.1mm | >0.1mm |







